淺談上海微電子智造中國芯論文

　　隨著信息產業(yè)的發(fā)展，集成電路(也就是常說的“芯片”)成為手機、平板電腦等電子移動終端離不開的設備，而光刻機是半導體芯片制造業(yè)中的最核心設備。

　　以光刻機為代表的高端半導體裝備支撐著集成電路產業(yè)發(fā)展，芯片越做越小，集成的電路越來越多，能使終端變得小巧玲瓏。

　　在光刻機領域，上海微電子裝備有限公司(下稱“SMEE”)取得了重要突破，并在先進封裝光刻機產品方面形成了系列化和量產化，在國際同類產品中處于先進水平，還實現(xiàn)了光刻機海外市場的銷售突破。SMEE也被列入國家發(fā)改委2016年1月底公布的國家認定企業(yè)技術中心名單。

　　在微觀世界里“造房子”

　　近日，在浦東張江園區(qū)SMEE展覽館里，SMEE人事總監(jiān)賀躍進向《中國經濟周刊》記者介紹了組成光刻機的核心部件。他將制造光刻機比作是在微觀世界里“造房子”——成像系統(tǒng)由幾十個直徑為200～300毫米的透鏡組成，定位精度都是納米級。

　　微米級的瞬時傳輸控制技術，猶如兩架空客以1000/小時公里同步高速運動，在瞬間對接穿針引線;玻璃鏡面加工等精度，誤差不會超過0.5毫米。

　　SMEE總經理賀榮明接受《中國經濟周刊》記者采訪時表示，光刻機是集成電路裝備中技術難度最高、價值量最大的部分，由于技術的超高難度導致在全世界形成了超高的技術門檻。

　　據了解，當今世界能夠擁有這種技術、生產這種產品的只有兩三個國家的兩三家公司。賀榮明表示，集成電路行業(yè)發(fā)展的很多技術路線、工藝路線是非常依賴于光科技的發(fā)展路線，所以從這個角度，它就成為信息產業(yè)集成電路行業(yè)發(fā)展的重要基石;從另一個角度來講，我國正在進行大的結構調整，對集成電路產業(yè)提出了非常高的期待與要求，不僅涉及到整個國家的產品結構調整發(fā)展，從某種程度它也涉及到整個信息產業(yè)的安全，所以如何在集成電路行業(yè)擁有自己的核心裝備，對國家國民經濟的發(fā)展就至為重要。

　　光刻機是集成度非常高，涉及的門類、領域、科技種類非常廣泛的集成性的設備，由于這種設備的發(fā)展會牽引帶動很多關鍵單元技術、子技術、子學科的發(fā)展，“牽一發(fā)而動全身”，它可以牽引推動整個高科技基礎領域的發(fā)展。

　　據了解，以光刻機為代表的產品主要應用于四大領域，芯片制造、芯片先進封裝、LED制造、下一代顯示屏制造。

　　另外還有類光科技產品，包括激光封裝、激光退火等設備，去年開始在試驗，今年逐步開始小批生產，未來為移動穿戴、智能時代提供產品。

　　賀榮明表示，光刻機的自主研發(fā)可以概括為一個“難”字，“因為難，有時候就逼著你沒有后路背水一戰(zhàn)去創(chuàng)新�！比魏我粋�行業(yè)的發(fā)展，特別是高端裝備的發(fā)展，其實最重要的還是人才，光刻機人才與其他行業(yè)相比，涉及面更廣，有幾十個專業(yè)，所有的技術在這個產品上匯聚、交雜，形成異常復雜的設備，對人才的廣泛性、多樣性提出更高要求。

　　不要只埋頭搞科研，還要會“沿途下蛋”

　　賀榮明告訴記者，高端光刻機開發(fā)的周期非常長，難度也非常高，如果在整個過程中只是走研發(fā)的道路，而不是及時考慮產業(yè)化，那么對整個項目的開發(fā)、人才團隊的鼓勵都會帶來管理上的困難 。SMEE的決策者們在決定以高端光刻機開發(fā)為主線的同時，每天都在考慮當離高端產品的開發(fā)還有一定高峰要攀登的時候，在“半山腰”、在“山腳”下，能不能把已經掌握、部分掌握的技術變成產品，去服務于行業(yè)�；�于這個思路，SMEE就形成了很多“沿途下蛋”的產品。

　　比如說，同樣是光刻機，它在前道的產業(yè)化應用難度非常高，但是后道的先進封裝對光刻機的應用越來越廣泛，可以先行進入，所以SMEE就抓住了這個契機，開發(fā)了一款適用于先進封裝行業(yè)的光刻機。此前，這種光刻機完全依賴于進口，而今SMEE 已經占領了80%以上的國內市場�，F(xiàn)在市場上高端智能手機上都有SMEE 自主研發(fā)的先進封裝光刻機的功勞。

　　這樣一來，產品的研發(fā)形成了一種階梯、波浪，“前面在不斷瞄準高科技的發(fā)展，同時它不斷把掌握的技術輻射為具有應用前景又能為國民經濟、產業(yè)領域提供很好技術支撐的產品，這樣兩個目標形成一種互動、良性循環(huán)。既通過高科技的研發(fā)來錘煉人才，又通過產品的市場化來打造工程性人才，這種人才的分合匯聚組合讓公司向兩維領域發(fā)展(一維是技術高度，一維是產業(yè)寬度)，不讓公司變?yōu)榧兇獾难邪l(fā)機構，同時也不讓公司太功利化。

　　這兩者融合能為公司將來高端光刻機的發(fā)展提供良好的發(fā)展模式�！辟R榮明表示。

　　賀榮明直言，企業(yè)運營的最大壓力在于技術突破和人才團隊的聚焦與持續(xù)發(fā)展。由于我國技術基礎比較薄弱，不但要攻克技術上的難點，還要解決攻克過程中的管理問題。在供應鏈的打造和高科技行業(yè)上受到國外的限制等，使得我國整個技術門類還不健全，整個資源鏈還不完善，現(xiàn)在一方面以自主創(chuàng)新為主，一方面用更寬泛的國際視野面向全球整合資源。

　　“我國高速發(fā)展，吸引了全球高科技人才、組織對我們充滿期待，這樣迎來了利用國際資源解決自身瓶頸，使得SMEE在堅持自主創(chuàng)新的同時全球化、國際化�！�

　　從跟蹤國際專利到不斷掌握擁有完全自主知識產權的高端光刻設備的總體設計技術、集成技術和關鍵單元技術，SMEE形成了系列完整的產品，實現(xiàn)了“用中國人的光刻機造中國芯”的夢想。 截至2015年底，SMEE獲得的專利總數1800項左右，85%是發(fā)明專利，800項已獲授權，其中國際發(fā)明專利140多項，獲授權的國際發(fā)明專利42項。這些專利滲透在各個產品之中，為高科技產品走向世界提供自主知識產權的法律保障。

　　SMEE在布局知識產權規(guī)劃時，很早就成立了知識產權與技術管理部，有20多位知識產權工程師、法律專家，定期分析收集全球專業(yè)技術領域的各種專利，包括新產生專利、即將失效的專利等，每個季度，知識產權與技術管理部提交知識產權戰(zhàn)略工作報告，以供SMEE進行戰(zhàn)略決策。

　　值得一提的是，每年SMEE以任務形式下達“專利指標”，并且與績效考核掛鉤，使產品進入市場不侵權不被起訴，“比如先進封裝光刻機技術有400項專利在保護著它，使它很好地進入市場，用戶可以放心使用，我們也不會受到競爭對手的干擾。”高科技企業(yè)發(fā)展，知識產權的戰(zhàn)略規(guī)劃與產品發(fā)展必須要同步。

　　目前，SMEE已成為國家級知識產權示范企業(yè)。

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